Descripción general del producto

El sistema de litografía Nano 3D son plataformas de microestereolitografía (PμSL) basadas en proyección-avanzada diseñadas para la fabricación aditiva a escala micro- y nano-.

Aprovechando los sistemas ópticos de grado litográfico-y la tecnología de escritura directa-sin máscara, la serie Ploceus logra una resolución líder en la industria-hasta1 μm, lo que permite la fabricación de microestructuras complejas de alta-relación de aspecto-, dispositivos multi-materiales y componentes cerámicos con una precisión dimensional excepcional.

La serie incluye múltiples niveles de precisión para satisfacer diversos requisitos industriales y de investigación:

LSS-20– Precisión estándar (20 μm)

LSS-10 /– Alta precisión (10 μm)

LSS-05– Microprecisión avanzada (5 μm)

LSS-02– Ultra precisión (2 μm)

LSS-01-DL/LSS-01-TL– Sistemas de alineación de múltiples-lentes (hasta 1 μm)

Con opciones de configuración modular, conmutación de múltiples-resoluciones y capacidad de alineación visual, la serie Ploceus admite tanto la creación rápida de prototipos como la microfabricación de alta-precisión.

Ventajas

① Precisión de litografía ultra-alta

Resolución de20 µm hasta 1 µm

Tolerancia dimensional tan baja como ±3 μm

Fabricación de estructuras de alta relación de aspecto.

② Cambio de resolución múltiple-

Cambio rápido entre 1 μm / 2 μm / 5 μm / 10 μm / 20 μm

Una plataforma para diferentes requisitos de precisión

③ Compatibilidad con varios materiales-

Resina

Resina biocompatible

Hidrogel (p. ej., GelMA)

Lodo cerámico de alúmina

Resina de ingeniería de alta-temperatura

④ Alineación visual y procesamiento WYSIWYG

Monitoreo óptico-en tiempo real

Nivelación y enfoque automáticos

Alineación heterogénea de múltiples-materiales

Precisión de alineación de superposición de hasta 2,5 μm

⑤ Impresión de alta-velocidad

5 a 50 veces más rápido que las herramientas de microfabricación tradicionales

Adecuado tanto para la creación de prototipos como para la producción de investigación por lotes.

⑥ Sistema de tina modular y flexible

Mini tina (15 ml) para desarrollo de materiales.

Cuba grande para producción en volumen.

Módulo de impresión de alta-temperatura

Sistema automático de eliminación de-burbujas

Aplicaciones

Ciencias biomédicas y biológicas

· Chips de microfluidos

· Organoide-en-una-plataformas de chip

· Conjuntos de microagujas (sólidas y huecas)

· Andamios de ingeniería de tejidos

· Sistemas de administración de medicamentos

· Moldes maestros PDMS

Materiales y metamateriales avanzados

Estructuras de celosía cerámica.

Metamateriales degradados

Superficie mínima triple periódica (TPMS)

Metamateriales mecánicos

Andamios cerámicos porosos

Dispositivos micro-funcionales y mecánicos

· Microengranajes

· Microconectores

· Metasuperficies ópticas

· Micro-resortes

· Microestructuras funcionales

Parámetros

Modelo	Precisión de litografía	Grosor mínimo de capa	Tolerancia de impresión	Tamaño máximo de impresión	Sistema de lentes
LSS-20	20 μm	5 μm	±50 μm	38×21×50 milímetros	Lente única
LSS-10	10 μm	5 μm	±20–25 μm	50×50×50 milímetros	Lente única
LSS-05	5 μm	3 μm	±10 μm	50×50×50 milímetros	Lente única
LSS-02	2 μm	3 μm	±5 μm	50×50×50 milímetros	Lente doble
LSS-01-DL	2 μm	3 μm	±5 μm	50×50×50 milímetros	Lente dual (alineación)
LSS-01-TL	1 μm	3 μm	±3 μm	50×50×50 milímetros	Lente triple (alineación)

Preguntas frecuentes

P: 1. ¿Qué tecnología utiliza este sistema?

R: El sistema se basa en micro-estereolitografía de proyección (PμSL) y tecnología de litografía de escritura directa-sin máscara, lo que permite la fabricación en 3D a escala micro/nano-de alta-precisión.

P: 2. ¿Cuál es la resolución más alta disponible?

R: Dependiendo del modelo, la precisión de la litografía varía entre:
20 μm
10 μm
5 μm
2 μm
hasta 1 μm (PL-3D-PT)

P: 3. ¿Qué materiales son compatibles?

R: El sistema admite una amplia gama de materiales, incluidos:
Resinas funcionales
Resinas biocompatibles
Resinas de ingeniería de alta-temperatura
Hidrogel (p. ej., GelMA)
Lodo cerámico de alúmina
La compatibilidad de materiales personalizados está disponible a pedido.

P: 4. ¿Puede imprimir estructuras cerámicas?

R: Sí. Los modelos seleccionados admiten la impresión en suspensión cerámica, lo que permite la fabricación de andamios cerámicos porosos, estructuras reticulares y metamateriales.

P: 5. ¿El sistema admite la impresión con múltiples-materiales?

R: Sí. Los modelos avanzados (PL-3D-PD/PL-3D-PT) admiten la impresión de alineación heterogénea de múltiples materiales con una precisión de alineación de superposición de hasta 2,5 μm.

P: 6. ¿Qué formatos de archivo son compatibles?

R: El sistema admite el formato STL para la entrada de modelos 3D.

P: 7. ¿Cuál es el tamaño máximo de impresión?

R: Dependiendo del modelo, el tamaño de impresión admitido puede alcanzar hasta:
50 mm × 50 mm × 50 mm
Hay disponibles configuraciones de tina personalizadas.

P: 8. ¿Para qué industrias es adecuado este sistema?

R: Las aplicaciones típicas incluyen:
Fabricación de chips de microfluidos.
matrices de microagujas
Andamios de ingeniería de tejidos
Metamateriales
Metasuperficies
Dispositivos micro{0}}mecánicos
Se utiliza ampliamente en los campos de investigación biomédica, materiales avanzados y microfabricación.

P: 9. ¿Cuáles son los requisitos de instalación?

R: Temperatura: 20 a 40 grados
Humedad: HR < 60%
Entorno de laboratorio estándar
No se requiere sala limpia para el funcionamiento básico (dependiendo de las necesidades de la aplicación).

P: 10. ¿Cómo se compara con las impresoras 3D SLA o DLP convencionales?

R: El sistema Ploceus ofrece:
Precisión óptica de grado litográfico-
Resolución de nivel de micrones-(1 a 5 μm)
Mayor estabilidad dimensional
Capacidad de alineación de múltiples-materiales
Está diseñado para micro/nanofabricación en lugar de prototipos generales.

Etiqueta: sistema de litografía nano 3d, fabricantes y proveedores de sistemas de litografía nano 3d de China