• Sistema MOCVD industrial
    Las series Nice-Tech CV600/CV700 son dispositivos MOCVD de producción en masa-de gama alta-para crecimiento epitaxial de semiconductores compuestos, que adoptan tecnología patentada de rotación dual por satélite-planetario-satélite para...
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  • Sistema MOCVD estándar
    Los equipos MOCVD de la serie Nice-Tech MC150/MC200/MC300 adoptan el modelo de inyección de gas con cabezal de ducha vertical de acoplamiento cercano-, con ventajas inherentes de uniformidad epitaxial a través de boquillas de gas de...
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  • Sistema EII
    Este equipo de deposición por haz de iones es un sistema de deposición de película delgada de alta-precisión diseñado para la preparación de películas delgadas de alambre metálico y contacto óhmico en la fabricación de dispositivos...
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  • Sistema de pulverización catódica con magnetrón de doble-...
    Este sistema de pulverización catódica con magnetrón-de doble cámara está diseñado específicamente para la fabricación de dispositivos de plano focal infrarrojo. Su función principal es depositar películas de pasivación compuestas de...
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  • Sistema LPE vertical
    Este horno vertical de epitaxia en fase líquida está diseñado para el crecimiento epitaxial en fase líquida-de materiales de película delgada-de HgCdTe, centrándose en la producción de materiales tipo P-dopados con As-utilizados en...
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  • Sistema LPE horizontal
    El horno de epitaxia horizontal en fase líquida es un equipo de proceso dedicado construido para el crecimiento epitaxial en fase líquida de películas delgadas de HgCdTe.
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  • Sistema de pulverización catódica con magnetrón de carbono
    Nuestro equipo de pulverización catódica de película de carbono es un sistema dedicado diseñado para depositar capas protectoras de película de carbono de alta-temperatura en dispositivos de SiC. Utiliza una arquitectura de clúster que...
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  • GaN-MOCVD
    GaN-MOCVD es un equipo de crecimiento epitaxial especializado diseñado para la deposición de nitruro de galio (GaN) de alta-calidad y películas delgadas de semiconductores compuestos relacionados.
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  • MOCVD
    Nuestro equipo de deposición de vapores químicos orgánicos de metal-(MOCVD) es una herramienta de fabricación central dedicada a la deposición de materiales epitaxiales de alta-calidad. Está diseñado profesionalmente para la preparación...
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  • Sistema LPCVD vertical
    El LPCVD vertical TEOS/Poly/SiN es un sistema de deposición química de vapor de baja-presión para la fabricación de semiconductores. Se utiliza para depositar películas delgadas de Poly, TEOS, SiN y HTO de alta-calidad.
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  • Sistema de pulverización catódica con magnetrón
    Este sistema de pulverización catódica con magnetrón está diseñado para la deposición de películas delgadas de metal en la fabricación de semiconductores. Se usa ampliamente en circuitos integrados, dispositivos de energía y empaques...
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  • Sistema MBE
    Nuestro sistema Molecular Beam Epitaxy (MBE) es un equipo de crecimiento epitaxial de alta-precisión dedicado a materiales semiconductores compuestos, especialmente materiales de heteroestructura ultrafinos. Se utiliza principalmente en...
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