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Sistema MOCVD industrialLas series Nice-Tech CV600/CV700 son dispositivos MOCVD de producción en masa-de gama alta-para crecimiento epitaxial de semiconductores compuestos, que adoptan tecnología patentada de rotación dual por satélite-planetario-satélite para...Ver más
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Sistema MOCVD estándarLos equipos MOCVD de la serie Nice-Tech MC150/MC200/MC300 adoptan el modelo de inyección de gas con cabezal de ducha vertical de acoplamiento cercano-, con ventajas inherentes de uniformidad epitaxial a través de boquillas de gas de...Ver más
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Sistema EIIEste equipo de deposición por haz de iones es un sistema de deposición de película delgada de alta-precisión diseñado para la preparación de películas delgadas de alambre metálico y contacto óhmico en la fabricación de dispositivos...Ver más
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Sistema de pulverización catódica con magnetrón de doble-...Este sistema de pulverización catódica con magnetrón-de doble cámara está diseñado específicamente para la fabricación de dispositivos de plano focal infrarrojo. Su función principal es depositar películas de pasivación compuestas de...Ver más
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Sistema LPE verticalEste horno vertical de epitaxia en fase líquida está diseñado para el crecimiento epitaxial en fase líquida-de materiales de película delgada-de HgCdTe, centrándose en la producción de materiales tipo P-dopados con As-utilizados en...Ver más
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Sistema LPE horizontalEl horno de epitaxia horizontal en fase líquida es un equipo de proceso dedicado construido para el crecimiento epitaxial en fase líquida de películas delgadas de HgCdTe.Ver más
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Sistema de pulverización catódica con magnetrón de carbonoNuestro equipo de pulverización catódica de película de carbono es un sistema dedicado diseñado para depositar capas protectoras de película de carbono de alta-temperatura en dispositivos de SiC. Utiliza una arquitectura de clúster que...Ver más
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Sistema LPCVD verticalEl LPCVD vertical TEOS/Poly/SiN es un sistema de deposición química de vapor de baja-presión para la fabricación de semiconductores. Se utiliza para depositar películas delgadas de Poly, TEOS, SiN y HTO de alta-calidad.Ver más
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Sistema de pulverización catódica con magnetrónEste sistema de pulverización catódica con magnetrón está diseñado para la deposición de películas delgadas de metal en la fabricación de semiconductores. Se usa ampliamente en circuitos integrados, dispositivos de energía y empaques...Ver más
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Sistema MBENuestro sistema Molecular Beam Epitaxy (MBE) es un equipo de crecimiento epitaxial de alta-precisión dedicado a materiales semiconductores compuestos, especialmente materiales de heteroestructura ultrafinos. Se utiliza principalmente en...Ver más
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