Recubridor y revelador por rotación de 12 pulgadas

Recubridor y revelador por rotación de 12 pulgadas

El SCD 12 es un equipo de seguimiento de revelador y recubridor-de giro automático de 12-pulgadas para el proceso de litografía de semiconductores. Diseñado para la fabricación de obleas de 300 mm, adopta un diseño de arquitectura modular-que admite una configuración de cámara flexible. Puede realizar una conexión en línea con herramientas de exposición a litografía, cubriendo escenarios de producción en masa e investigación y desarrollo para circuitos integrados, empaques avanzados, dispositivos de energía y otros campos.
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Descripción

Descripción general del producto

 

El SCD 12 es un equipo de seguimiento de revelador y recubridor-de giro automático de 12-pulgadas para el proceso de litografía de semiconductores. Diseñado para la fabricación de obleas de 300 mm, adopta un diseño de arquitectura modular-que admite una configuración de cámara flexible. Puede realizar una conexión en línea con herramientas de exposición a litografía, cubriendo escenarios de producción en masa e investigación y desarrollo para circuitos integrados, empaques avanzados, dispositivos de energía y otros campos.

Es capaz de procesar obleas ultra-delgadas y deformadas, admite conmutación de tamaño de-oblea-doble{2}}sin reemplazo de piezas y es totalmente compatible con los principales procesos de litografía de semiconductores.

 

Ventajas

 

Alta-capacidad y tamaño compacto Diseño de unidad de proceso-modular, alto rendimiento, ahorra valioso espacio-en sala limpia. Las cámaras de proceso se pueden configurar de forma flexible según los requisitos del cliente.

Fuerte capacidad de procesamiento de obleas-deformadas Admite transferencia y procesamiento estables para obleas ultra-delgadas y deformadas con deformaciones inferiores a 5 mm, lo que resuelve las dificultades de la fabricación de sustratos-especiales.

Compatibilidad de tamaño dual-sin reemplazo de hardware Cambie entre diferentes tamaños de oblea sin reemplazo-de piezas mecánicas, acorte el tiempo de cambio y reduzca el costo de operación.

Listo para herramientas de litografía-en línea El módulo de interfaz opcional admite el acoplamiento en línea-con máquinas de exposición de litografía convencionales, lo que permite realizar un flujo de trabajo de litografía de seguimiento-completamente automático.

Amplias opciones de módulo-funcional. Admite placa calefactora de alta-precisión, alineación óptica, exposición de bordes de oblea WEE y otros componentes opcionales para satisfacer los requisitos de procesos- diversificados.

 

Parámetros

 

Artículo

Especificación

Modelo

Recubridor y revelador giratorio SCD de 12 12-pulgadas

Tamaño de oblea

12-pulgadas (300 mm), compatible con tamaño dual sin reemplazo de piezas

Material de sustrato

Sí, vidrio

Configuraciones de la cámara

2C2D / 4C / 4D / 4C4D (personalizable)

Proceso de litografía admitido

i-línea, KrF, ArF, PI, SOG, SOC

Ancho de línea de litografía aplicable

Mayor o igual a 90 nm

Rendimiento máximo

110 WPH (depende de la receta y la configuración)

Compatibilidad con obleas deformadas

Admite deformación Menor o igual a 5 mm transmisión y procesamiento de obleas ultrafinas/deformadas

Dimensión (Ancho × Fondo × Alto)

4970 × 1973 × 2460 milímetros

Función en línea

Módulo de interfaz opcional para conectar con la máquina de litografía

Unidades opcionales

Placa calefactora de alta-precisión, alineación óptica y módulo de exposición de bordes de oblea WEE

Modo de control

Control local/control remoto de automatización de fábrica

Proceso de dar un título

Compatible con SEMI S2

 

Preguntas frecuentes

 

Preguntas frecuentes

P: ¿Qué sustratos y tamaños de oblea admite SCD 12?

R: Principalmente para obleas de 12 pulgadas (300 mm), que soportan sustratos de Si y Vidrio. Admite cambio de tamaño dual sin reemplazar piezas de repuesto y puede procesar obleas deformadas/ultrafinas con deformación menor o igual a 5 mm.

P: ¿Qué procesos de litografía puede ejecutar esta máquina?

R: Admite procesos i line, KrF, ArF, PI, SOG, SOC, adecuados para litografía con ancho de línea mayor o igual a 90 nm.

P: ¿Se puede conectar el SCD 12 a un escáner/paso a paso de litografía?

R: Sí. Seleccione el módulo de interfaz opcional para lograr un acoplamiento en línea con las máquinas de exposición de litografía convencionales.

P: ¿Qué configuraciones de cámara están disponibles para seleccionar?

R: Configuraciones disponibles: 2C2D / 4C / 4D / 4C4D. Los clientes pueden agregar unidades opcionales que incluyen placa calefactora de alta precisión, alineación óptica, WEE y módulo de interfaz en línea según los requisitos del proceso.

P: ¿Cuál es el rendimiento real?

R: El rendimiento máximo es 110 WPH. El rendimiento en el mundo real varía según la configuración real de la cámara y la receta de producción.

P: ¿El SCD 12 es adecuado tanto para producción en masa como para investigación y desarrollo en laboratorio?

R: Sí. La configuración modular flexible puede satisfacer las demandas de fábricas de producción en masa de gran volumen y también adaptarse al trabajo de I+D de lotes pequeños en institutos de investigación.

Etiqueta: Recubridor y revelador por rotación de 12 pulgadas, fabricantes y proveedores de revelador y recubridor por rotación de 12 pulgadas en China

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