Descripción general del producto

Esta máquina de litografía sin máscara, en pocas palabras, es una máquina que puede grabar patrones intrincados en materiales sin una "máscara". Es más flexible y rentable-que la litografía con esténcil tradicional y permite ajustes rápidos de patrones, lo que la hace adecuada para investigación, producción de lotes pequeños-y enseñanza.

Viene en cuatro modelos principales:

1. La máquina de litografía sin máscara en versión de investigación es adecuada para investigaciones de laboratorio, maneja materiales de 6 pulgadas y es capaz de grabar patrones tan finos como 0,4 micrómetros, ofreciendo alta precisión;

2. La máquina de litografía sin máscara en versión de alta-velocidad es para producción de lotes pequeños-y maneja materiales de 8 pulgadas a velocidades excepcionalmente altas, hasta 2500 milímetros cuadrados por minuto;

3. La máquina de litografía sin máscara en versión educativa es un modelo de escritorio pequeño, de solo 2 pulgadas de tamaño, ideal para la enseñanza en el aula y fácil de operar;

4. La versión de formato ultra-grande capaz de manejar materiales de 2-metros, satisfaciendo necesidades específicas de procesamiento a gran escala.

Ya sea que fabrique componentes de chips diminutos, chips de microfluidos para experimentos biológicos o demostraciones educativas, existe un modelo que satisface sus necesidades y le permite ahorrar tiempo y dinero al eliminar la necesidad de una máscara.

Si desea saber cómo utilizar un modelo en particular o qué modelo elegir para un determinado tipo de escenario de procesamiento, comuníquese con nuestra empresa. Te lo explicaremos detalladamente utilizando el folleto del producto.

Ventajas

Diseño flexible, sin necesidad de máscaras

Precisión de dimensiones críticas de hasta 400 nm

Velocidad hasta 1200 mm2 /min

Área de exposición hasta 4 m2

Litografía en escala de grises hasta 4096 niveles.

Parámetros

Modelo	ML 100	MLM 200	MLM 300
Dimensión crítica	0.8 μm	0.4 μm
Líneas y espacios mínimos	1.0 μm	0.8 μm
Velocidad de exposición	Lente①:3mm²/min Lente②: 20mm²/min Lente③: 100 mm²/min	Lente①: 1mm²/min Lente②: 3mm²/min Lente③: 20 mm²/min Lente④: 100 mm²/min	Lente①: 10mm²/min Lente②: 60mm²/min Lente③: 150 mm²/min
Precisión de superposición (5 mm × 5 mm)	400 nanómetro	350 nanómetro
Precisión de superposición (50 mm × 50 mm)	1000 nanómetro	700 nanómetro
Longitud de onda	LED: 405nm/380nm	LED: 405nm/390nm
Cambio automático de lentes	Apoyado
Escala de grises	Opcional	Apoyado	No-opcional
Tamaño del sustrato	3 mm × 3 mm (mín.) y 150 mm × 150 mm (máx.)
Espesor del sustrato	0-10mm
Formato de datos	GDS y DWG y DXF
Dimensiones (largo x ancho x alto)	750 mm × 800 mm × 700 mm	1150 mm × 950 mm × 2000 mm
Peso	320 kilos	590 kilogramos
Requisitos de instalación	Área total: 1,5 m × 1,5 m Potencia: 1,3 kilovatios; Temperatura: 20 a 30 grados; Humedad: RH 40-60 % Fuente de alimentación: 220 V ±5 %, 50 Hz ±1 Hz, 10 A	Área total: 2,2 m × 1,7 m Potencia: 1,4 kilovatios; Temperatura: 20 a 30 grados; Humedad: RH 40-60 % Fuente de alimentación: 220 V ±5 %, 50 Hz ±1 Hz, 10 A

Modelo	MLM 400	ML 500
Dimensión crítica	1.0 μm	0.5 μm
Líneas y espacios mínimos	2.0 μm	0.5 μm
Velocidad de exposición	Lente①:1000 mm²/min Lente②: 2500 mm²/min	Lente①:75mm²/min Lente②: 300 mm²/min Lente③: 1200 mm²/min
Precisión de superposición (5 mm × 5 mm)	500 nanómetro	250 nanómetro
Precisión de superposición (50 mm × 50 mm)	1000 nanómetro	500 nanómetro
Longitud de onda	LD: 405 nm/375 nm
Cambio automático de lentes	Apoyado
Escala de grises	Opcional
Tamaño del sustrato	3 mm × 3 mm (mín.) y 200 mm × 200 mm (máx.)
Espesor del sustrato	0-10mm
Formato de datos	GDS y DWG y DXF
Dimensiones (largo x ancho x alto)	1700 mm × 1300 mm × 1950 mm
Peso	1400 kilogramos
Requisitos de instalación	Área total: 2,7 m × 2,3 m Potencia: 2,4 kilovatios; Temperatura: 20 a 26 grados; Humedad: RH 40-60 % Fuente de alimentación: 220 V ±5 %, 50 Hz ±1 Hz, 16 A

Preguntas frecuentes

¿Cuál es la mayor ventaja de esta máquina en comparación con las máquinas de litografía tradicionales?

Elimina la necesidad de "máscaras" (las plantillas utilizadas en la litografía tradicional). Los cambios de patrones se realizan directamente en el software, lo que ahorra costos y tiempo de preparación de la plantilla. Esto hace que la producción de pruebas en lotes pequeños-y la investigación de nuevos diseños sean mucho más fáciles.

¿Qué tan bien puede grabar? ¿Los diferentes modelos tienen diferente precisión?

La precisión depende del modelo: la versión de investigación puede grabar hasta 0,4 micrómetros, la versión de alta-velocidad 0,5 micrómetros y la versión educativa 1,5 micrómetros, lo cual es suficiente para la mayoría de las investigaciones y producciones diarias.

¿Qué tamaño de materiales puede manejar?

Los materiales más pequeños incluyen la versión educativa (2 pulgadas, aproximadamente 5 cm), la versión de investigación (6 pulgadas) y la versión de alta-velocidad (8 pulgadas). Para materiales ultra-más grandes, existen modelos capaces de grabar hasta 2 metros, adecuados para sensores grandes y pantallas flexibles.

¿Qué tan rápido es? ¿Es adecuado para la producción-de lotes pequeños?

La versión de alta-velocidad puede grabar hasta 2500 milímetros cuadrados por minuto, suficiente para la producción de lotes pequeños-. La versión de investigación prioriza la precisión, pero su velocidad también satisface las necesidades experimentales sin largos tiempos de espera.

Además de los materiales estándar, ¿puede grabar materiales especiales?

Puede grabar diamantes, fibras ópticas e incluso palas curvas de motores pequeños. También puede equiparse con una guantera para manipular materiales sensibles al agua y al oxígeno (como Micro-LED y óxidos magnéticos).

¿Se puede utilizar en la enseñanza escolar? ¿Existen modelos adecuados?

Hay una versión educativa disponible. Tiene el tamaño de una computadora de escritorio-, es fácil de operar y es perfecto para que los estudiantes practiquen los principios de la fotolitografía. La precisión de 1,5 micras es suficiente para experimentos didácticos.

¿Está fija la fuente de luz? ¿Se puede cambiar?

El valor predeterminado es luz ultravioleta de 405 nm. Para necesidades especiales, se pueden seleccionar otras longitudes de onda (como 380 nm y 375 nm) sin reemplazar toda la unidad.

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