Descripción general del producto
El evaporador de haz de electrones de Nice-tech es una serie de equipos PVD (deposición física de vapor) de alto-rendimiento desarrollados para diversas necesidades de producción industrial e investigación científica. Cubriendo producción en masa a nivel de oblea-, recubrimiento de piezas de trabajo de gran-tamaño, investigación y desarrollo de lotes pequeños-y escenarios de procesos especializados, la línea de productos incluye múltiples modelos como EBE 700, EBE 600/EBE 600P, EBE 500, EBE 400, EBE300/EBE300P, EBE 200/EBE 200P, EBE. 100. Cada sistema integra tecnología avanzada de recubrimiento al vacío y componentes principales de clase mundial (de marcas como Edwards, Pfeiffer y MKS), junto con el sistema de control totalmente automático VKOS de desarrollo propio, lo que garantiza una deposición de película estable, confiable y eficiente.
La serie de productos presenta diseños estructurales flexibles-que incluyen configuraciones de cámara única-, cámara dual-y compactas-para adaptarse a diferentes requisitos de espacio y proceso. Se destacan los indicadores clave de rendimiento: uniformidad del recubrimiento con una precisión de ±2 % (la mayoría de los modelos) y ±3 % (modelos compactos), vacío máximo que alcanza de 1E-5Pa a 2E-5Pa y rangos de control de temperatura que van desde -50 grados a 500 grados (o RT a 500 grados) para satisfacer las necesidades de deposición de diversos materiales. Ya sea producción en masa a nivel de oblea, preparación compleja de películas multicapa o verificación de I+D en laboratorio, los sistemas de evaporación por haz de electrones de Vikaitech ofrecen soluciones personalizadas.
Ventajas
- Calidad de película superior y alta consistencia
- Modelos diversificados para necesidades específicas
- Alta automatización y fácil mantenimiento
- Gran compatibilidad y personalización
- Configuraciones centrales confiables
Aplicaciones
- Semiconductores y microelectrónica
- Optoelectrónica y comunicación óptica
- Detección aeroespacial e infrarroja
- Biomedicina y nuevos materiales
- Producción industrial en masa
- Investigación científica y universidades
Parámetros
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Artículo |
EBE 700 (tipo de producción en masa de gama alta-) |
EBE 600/EBE 600P (tipo de cámara dual-de producción) |
EBE 500 (tipo de cámara dual-universal) |
EBE 400 (tipo de cámara dual-de investigación y desarrollo) |
EBE300 /EBE 300P (Producción Tipo de cámara única-) |
EBE 200 /EBE 200P (tipo de cámara única-universal) |
EBE 100 (tipo compacto) |
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Uniformidad del recubrimiento |
±2% |
±3% |
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Repetibilidad del recubrimiento |
±2% |
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Vacío definitivo |
2E-5Pa |
1E-5Pa |
1E-5Pa |
1E-5Pa |
2E-5Pa |
1E-5Pa |
1E-5Pa |
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Rango de control de temperatura |
temperatura ambiente ~ 200 grados |
temperatura ambiente ~ 300 grados |
temperatura ambiente ~ 500 grados |
temperatura ambiente ~ 500 grados |
temperatura ambiente ~ 300 grados |
temperatura ambiente ~ 500 grados |
-50 grados ~ 500 grados |
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Área de deposición uniforme |
Nivel de oblea-(8 pulgadas y más para producción en masa) |
Piezas de trabajo de gran-tamaño (menor o igual a 1000 mm × 1000 mm) |
Tamaño universal (adecuado para producción e investigación y desarrollo) |
Piezas de trabajo en lotes pequeños-a-medianos (I+D y producción a pequeña-escala) |
Piezas de trabajo de gran-tamaño (menor o igual a 1000 mm × 1000 mm) |
Máximo Ø300mm (Oblea/Pieza de trabajo) |
Laboratorio-Escala de tamaño pequeño (menor o igual a Ø150 mm) |
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Tipo de cámara |
Cámara única (nivel de oblea-completamente automático) |
Cámara Dual (Tipo de Producción, Cámara de Proceso Independiente) |
Cámara dual (tipo universal, bloqueo de carga mutua) |
Cámara doble (tipo I+D, bloqueo de carga de cámara superior-inferior) |
Cámara única (tipo de producción, cámara grande) |
Cámara única (tipo universal, cámara estándar) |
Cámara única (tipo compacto, cámara pequeña) |
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Sistema de carga |
Transferencia automática de obleas |
Transferencia automática de robots |
Bloqueo de carga automática de oblea única/multi- |
Bloqueo de carga automática de oblea única/multi- |
Transferencia automática de robots |
Carga manual/semi{0}}automática |
Carga manual (portátil) |
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L×W×H(m) |
8.5×5.5×3.3 |
4.4×4.1×2.6 |
4.0×3.1×2.9 |
3.0×2.5×2.2 |
4.05×3.9×2.8 |
3.35×2.8×2.2 |
3.15×2.4×2.2 |
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Peso neto (aprox.) |
12000kg |
8500 kilos |
6800 kilos |
4200 kilos |
7200 kilos |
5500 kilos |
3800 kilos |
Preguntas frecuentes
P: ¿Cuál es la aplicación principal?
R: Deposición de películas delgadas-de alta-precisión para investigación y desarrollo de semiconductores, optoelectrónica, aeroespacial, biomedicina y nuevos materiales.
P: ¿Qué materiales son compatibles?
R: Metales (Al, Au), dieléctricos (SiO₂), semiconductores, compuestos, cerámicas; T360 optimizado para la deposición de indio.
P: ¿Especificaciones clave de rendimiento?
A: Uniformidad del recubrimiento ±2% (modelos de producción)/±3% (I+D/compacto); repetibilidad ±2%; vacío máximo 1E-5Pa~2E-5Pa.
P: ¿Se pueden actualizar las configuraciones?
R: Sí,-agregue fuentes de iones,-cámaras de prevacío, accesorios o bloqueos de carga automáticos (depende del modelo-).
P: ¿Instalación y capacitación incluidas?
R:-instalación/puesta en marcha en el sitio + capacitación en operación/mantenimiento; Guía remota disponible.
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