Descripción general del producto
Nuestro sistema de grabado por haz de iones (IBE) es un equipo de procesamiento de materiales de alta-precisión diseñado para la industria de la micro-nanofabricación. Utiliza un haz de iones enfocado y controlable para realizar un grabado físico en la superficie de materiales de película delgada-, lo que permite procesos de grabado selectivo o despegue-con alta precisión.
Este sistema está diseñado profesionalmente para procesar una amplia gama de materiales-de película delgada, incluidos, entre otros, Cu, Cr, Pt, Au, Ti, Ag y Al₂O₃. Admite tamaños de oblea estándar de 6 y 8 pulgadas, lo que lo hace altamente compatible con los principales procesos de fabricación de semiconductores y sistemas micro-electro{5}}(MEMS). Al aprovechar la tecnología de grabado de baja-temperatura y bajo-daño, proporciona una solución ideal para la preparación de micro-nanodispositivos de alto-rendimiento.
Ventajas
Alta precisión y control de procesos
El sistema está integrado con un sistema avanzado de detección de puntos finales de grabado, que permite la supervisión en tiempo real-y un control preciso de todo el proceso de grabado. Esto garantiza una excelente repetibilidad y precisión, con una uniformidad de grabado inferior o igual a ±5 % (tanto dentro de la oblea como de oblea-a-oblea), lo que garantiza resultados consistentes de alta-calidad en todos los lotes de producción.
Compatibilidad de proceso superior
Satisface los requisitos de grabado de múltiples-ángulos, baja-temperatura (0 grados – 30 grados) y bajo-daño. Esta capacidad es crucial para proteger-materiales frágiles y sensibles a la temperatura, minimizar el daño al sustrato y preservar las propiedades intrínsecas de las películas delgadas, mejorando así significativamente el rendimiento y el rendimiento del dispositivo.
Configuración flexible y escalable
Para satisfacer diversas necesidades de producción e I+D, el sistema ofrece una arquitectura de herramientas de clúster opcional. Este diseño modular permite la integración de múltiples cámaras de proceso, lo que facilita una integración perfecta del proceso, una fabricación de alto-volumen y una automatización eficiente del flujo de trabajo, lo que lo hace adecuado tanto para la investigación de laboratorio como para la producción industrial en masa.
Aplicaciones
El sistema de grabado por haz de iones es una pieza fundamental del equipo en el campo de la micro{0}}nanofabricación avanzada, con una amplia gama de aplicaciones:
1. Fabricación de dispositivos semiconductores
Se utiliza para crear patrones precisos de electrodos metálicos, interconexiones y estructuras de compuertas en circuitos integrados (CI), así como para recortar y ajustar resistencias y condensadores de película delgada-.
2. Fabricación de MEMS y NEMS
Desempeña un papel vital en la fabricación de micro-sensores, micro-actuadores y otros dispositivos MEMS/NEMS, lo que permite la creación de microestructuras de alta-relación de aspecto-y estructuras suspendidas con alta precisión.
3. Producción de dispositivos optoelectrónicos
Se aplica al procesamiento de materiales de película delgada-en láseres, fotodetectores y guías de ondas ópticas, lo que facilita la producción de componentes optoelectrónicos de alto-rendimiento.
4. Empaquetado e interconexión avanzados
Se utiliza en tecnologías de empaquetado avanzadas para el grabado selectivo de capas de redistribución (RDL) y la preparación de estructuras de relieve de alta-precisión.
Preguntas frecuentes
P: 1. ¿Qué es un sistema de grabado por haz de iones (IBE)?
R: Un sistema de grabado por haz de iones (IBE) es un equipo de micro-nanoprocesamiento de alta-precisión que utiliza un haz de iones enfocado para realizar un grabado físico en materiales de película delgada-. Se utiliza principalmente para grabado selectivo y decapado de diversas películas delgadas, y se usa ampliamente en semiconductores, MEMS, optoelectrónica y otros campos.
P: 2. ¿Para qué materiales es adecuado el sistema IBE?
R: Este sistema IBE es adecuado para grabado selectivo o decapado de materiales-de película delgada como Cu, Cr, Pt, Au, Ti, Ag y Al₂O₃, y puede satisfacer las necesidades de procesamiento de diversas películas delgadas dieléctricas y metálicas comunes.
P: 3. ¿Qué tamaños de oblea admite la máquina de grabado por haz de iones?
R: La máquina de grabado por haz de iones admite dos tamaños de obleas estándar: 6 pulgadas y 8 pulgadas, lo cual es compatible con las principales especificaciones de procesamiento de obleas en la industria y satisface las necesidades de investigación y desarrollo y producción de lotes pequeños-.
P: 4. ¿Cuáles son las ventajas de la tecnología de grabado por haz de iones?
R: El grabado con haz de iones tiene las ventajas de una baja temperatura (0 grados ~ 30 grados), bajo daño, procesamiento en múltiples-ángulos y alta uniformidad. Puede reducir el estrés térmico y el daño material, y garantizar la estabilidad y consistencia del proceso de grabado.
P: 5. ¿Cuál es la uniformidad de grabado del sistema IBE?
Sí, la máquina de grabado por haz de iones está integrada con un sistema avanzado de detección de puntos finales de grabado, que puede monitorear el proceso de grabado en tiempo real, lograr un control preciso del proceso de grabado y evitar un grabado excesivo o insuficiente.
P: 6. ¿La máquina de grabado por haz de iones tiene una función de detección de punto final?
R: Sí, la máquina de grabado por haz de iones está integrada con un sistema avanzado de detección de punto final de grabado, que puede monitorear el proceso de grabado en tiempo real, lograr un control preciso del proceso de grabado y evitar un grabado excesivo o insuficiente.
P: 7. ¿Se puede configurar el sistema IBE con múltiples cámaras de proceso?
R: Sí, el sistema IBE admite una arquitectura de clúster opcional, que puede equiparse con múltiples cámaras de proceso de grabado para satisfacer las necesidades de cambio de proceso flexible y eficiencia de producción mejorada.
Etiqueta: sistema ibe, fabricantes y proveedores de sistemas ibe de China
